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[반도체실무과정] 8대공정 : 노광 및 식각 공정
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교육시간 | 총 20시간 |
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| 교육시작일 | ※ 수강신청하실 교육시작일을 선택해주세요. | |
| 수강신청기간 | - | |
| 교육기간 | - | |
| 정원 | 1,000명 | |
| 교육비 | 63,000원 |
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수강신청
- 과정소개
- 교과목소개
교육소개
[반도체실무과정] 8대공정 시리즈
교육목표
- 반도체 8대공정 중 Photolithography 공정의 절차 및 의의에 대해 이해하고 실제 업무에 적용할 수 있다.
- Photo 공정 8대 절차 및 Track 구성, 표면 처리, PR spin coating에 대해 이해하고 설명할 수 있다.
- Soft bake 및 Alignment, exposure, Resolution, DOF, NA, 광원과 파장에 대해 이해하고 반도체 제조 시 정확성을 높인다.
- Photo 불량 사례를 이해하고 이를 통해 반도체 제조 시 불량율을 낮출 수 있다. - Etching 공정의 개요와 용어를 설명할 수 있다.
- 플라즈마의 생성과 특징을 설명할 수 있다.
- 다양한 Etching 공정의 장점과 단점을 숙지하고 원리를 설명할 수 있다.
- Photo 공정 8대 절차 및 Track 구성, 표면 처리, PR spin coating에 대해 이해하고 설명할 수 있다.
- Soft bake 및 Alignment, exposure, Resolution, DOF, NA, 광원과 파장에 대해 이해하고 반도체 제조 시 정확성을 높인다.
- Photo 불량 사례를 이해하고 이를 통해 반도체 제조 시 불량율을 낮출 수 있다. - Etching 공정의 개요와 용어를 설명할 수 있다.
- 플라즈마의 생성과 특징을 설명할 수 있다.
- 다양한 Etching 공정의 장점과 단점을 숙지하고 원리를 설명할 수 있다.
교육대상
반도체 제조 공정 관련 직무 종사자
강사소개
| 강사명 | 전공 | 자격 및 경력사항 |
|---|---|---|
| 온라인교강사 |
집체교육
| 교과목명 | 강사 | 학습시간 |
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| 등록된 집체교육 정보가 없습니다. | ||
인터넷교육
| 교과목명 | 강사 | 학습시간 |
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| [반도체실무과정] 8대공정 : 노광 및 식각 공정 | 온라인교강사 | 20시간 |